Cibles de pulvérisation de titane de grande pureté pour la machine de métallisation sous vide de PVD

Objectifs de pulvérisation de titane de haute pureté pour la machine de revêtement sous vide PVD

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cibles de pulvérisation de titane de haute pureté

Exigences de base pour les cibles de pulvérisation au titane:

En règle générale, les indicateurs suivants seront pris en considération pour déterminer si la cible de pulvérisation satisfait aux principales exigences:

La pureté: la pureté a une grande influence sur les performances du film pulvérisé.propriétés électriques et optiques du film pulvérisé.

Contenu d'impuretés: les impuretés dans le solide cible et l'oxygène et la vapeur d'eau dans les pores sont les principales sources de pollution du film de dépôt.Différentes matières cibles ont des exigences différentes pour leur teneur en impuretés.

Densité: la densité de la cible affectera non seulement le taux de pulvérisation, mais aussi les propriétés électriques et optiques du film.pour réduire la porosité du solide cible et améliorer les performances du film pulvérisé, la cible doit généralement avoir une densité élevée.

Taille du grain et répartition du grain: pour la même cible, le taux de pulvérisation de la cible à grains fins est plus rapide que celui de la cible à grains grossiers;Plus la différence de taille des particules est petite (distribution uniforme), plus l'épaisseur du film de dépôt de pulvérisation cible est uniforme.

Des images détaillées:

Emballage:Chaque cible en titane est emballée dans un sac en plastique sous vide personnalisé, rempli de film mousseux et de coton perlé au milieu, et un boîtier en contreplaqué sans fumigation à l'extérieur.Respecter les normes internationales en matière de transport, pour assurer la sécurité du transport des marchandises.

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